紫外線応用装置
製品一覧
紫外線硬化装置
最近では一般的な技術として認識されている紫外線硬化技術は、用途がますます拡がっています。
接着剤・塗料・マーキングインキ・フォトレジスト等の秒速硬化だけに限らず、高圧紫外線から放出される各種の波長を特殊なフィルターにて選択し、新たな用途に用いる試みも行われています。
エキシマ光源(単一波長ランプ)
様々な波長のエキシマランプが製作できます。
主に研究開発に役立つと考えます。
素材にこれらの波長を照射したとき、どんな反応があるか等手軽に実験可能です。
波長表
紫外線洗浄装置
短波長紫外線が素材表面の微細な汚れを取ったり、表面を改質したりする効果があることは良く知られています。当社では真空装置内での紫外線処理装置も含め多種の紫外線洗浄装置の供給をしています。
真空タイプ紫外線洗浄改質装置
真空環境下各種ワークに短波長紫外線が照射できるタイプです。
脱酸素雰囲気下での改質やガス注入・排気による洗浄が可能です。
また、上記以外にもトレイ引き出しにより、ワークの洗浄改質が簡単にできるバッチタイプ紫外線洗浄改質装置、カセットtoカセットで処理を行い、搬送をワイヤーコンベアで行うことにより、各種サイズのL/Fに対応が可能なワイヤーコンベアタイプ、メッシュコンベアタイプなど、用途に合わせた多くの種類があります。
紫外線偏光露光装置
偏光角(Brewster'sangle)による紫外線露光を使用し、大画面でも一括露光が可能です。
基本スペック
主波長 | 313nm |
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平行度 | ±1.5°[2.0kW] ±0.5°[5.0kW] |
消光比 | 100:1 |
照度分布 | ±3% |
照度 | 8mW/cm2[200×200mm] 6mW/cm2[400×400mm] |